HUIWEI TECHNOLOGY · GaN · 20261024

GaN 產品特性與 3D 技術圖解

以元件結構、材料平台與整合方式,理解 GaN 電源技術。點選圖片可開啟原圖放大查看。

GaN 元件型態與技術分類|修正版

GaN 元件型態與技術分類|修正版 / GaN device types and technology classification | revised

HEMT 是元件結構;p-GaN、MIS-HEMT 與 GIT 涉及閘極設計及技術;e-mode/d-mode 是操作模式;Cascode 是複合開關。垂直 GaN 電晶體與二極體則依電流路徑分類。

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GaN 材料平台與整合方式

GaN 材料平台與整合方式 / GaN material platforms and integration

GaN-on-Si 與 GaN-on-SiC 說明基板平台,評估成本、規模、供應與散熱。Discrete GaN 由外部搭配驅動與保護;GaN Power IC 整合部分功能,仍可採 HEMT。SiC 基板不等於 SiC MOSFET。

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版本參考|查看第三張原版型態圖

GaN 型態圖|原版參考

GaN 型態圖|原版參考 / GaN device types | original reference

此圖保留作版本參考。垂直電晶體的 G 閘極與二極體 A/K 端點,請以上方修正版為準;二極體不使用 S/D 端點名稱。

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圖中為概念剖析,非匯微已量產產品或特定晶圓廠實際結構;尺寸不按比例。圖片內文字保留原稿,標題與簡介可切換中英文。

HUIWEI TECHNOLOGY · PRODUCT ROADMAP · 2026-2028

SiC / GaN / Ga₂O₃ 產品路線圖

從 Tape-out、工程樣品、客戶評估與可靠度驗證,到試產及量產放行,了解匯微 2026-2028 年產品開發方向。

Huiwei 2026-2028 proposed SiC, GaN and gallium oxide product roadmap, from tape-out through production release
英文版總覽圖;點選圖片可放大查看季別里程碑。
  • SiC:650V 二極體規劃 2027 Q4 量產;650/1200V MOSFET 與高壓產品規劃 2028 年分批放行。
  • GaN:650V 與 80/100V 產品規劃 2027 年流片與評估,2028 年推進驗證、試產及量產放行。
  • Ga₂O₃:以 650V Schottky 二極體探索線為先,規劃 2028 年試產及條件式量產審查。

規劃目標:圖中日期並非已完成里程碑或供貨承諾。各節點須確認製程、資金、驗證、產能與客戶接受條件;Ga₂O₃ 的 MP* 為條件式放行審查,基準為試產/有限量供應。

HUIWEI TECHNOLOGY · SiC · 20261009 ROADMAP RELEASE

從功能位置,走到樣品評估。

功能位置 → 候選料號 → 3D立體剖面 → 規格書 → 樣品申請

點選料號或3D圖片即可查看完整立體剖面。文件核對基準:2026/09/27。3D圖為工程示意,不代表晶圓廠實際Cell Architecture;候選亦非設計核准或供貨承諾。

HUIWEI · 20261021 V1

產品料號 × 應用剖析

Huiwei four application product cutaway concepts

點圖放大。以下中英文文字與規格書為料號對照依據;圖片文字為簡化示意。

應用概念與候選元件,非已驗證整機。拓撲、封裝、額定值、熱設計及可靠度均須工程確認。

02 候選料號與規格書

650 V · SiC MOSFET

H3M065F011

RDS(on) typ. 11 mΩ @ VGS 18 V, ID 100 A, TC 25°C

TO-247-3L

Tentative Rev. 0.1 · 初步版規格書

約 400V 母線之 PFC 或隔離 DC/DC 開關候選;不可直接承受 800V。

樣品/量產/交期:待匯微確認

H3M065F011 3D立體剖面圖查看3D立體剖面
03 規格書 PDF
對應產品應用
650 V · SiC MOSFET

H3M065Q011

RDS(on) typ. 11 mΩ @ VGS 18 V, ID 100 A, TC 25°C

TO-247-4L / Kelvin source

Preliminary Rev. 0.1 · 初步版規格書

約 400V 母線之 PFC 或隔離 DC/DC 開關候選;不可直接承受 800V。

樣品/量產/交期:待匯微確認

H3M065Q011 3D立體剖面圖查看3D立體剖面
03 規格書 PDF
對應產品應用
1200 V · SiC MOSFET

H1M120Q060

RDS(on) typ. 60 mΩ @ VGS 20 V, ID 20 A, TC 25°C

TO-247-4L

Rev. Pre 0.6 · 初步版規格書

高壓 AFE、DC/DC 或逆變橋臂候選;800V 母線需核對尖峰與降額。

樣品/量產/交期:待匯微確認

H1M120Q060 3D立體剖面圖查看3D立體剖面
03 規格書 PDF
對應產品應用
1200 V · SiC MOSFET

H3M120Q025

RDS(on) typ. 25 mΩ @ VGS 15 V, ID 50 A, TC 25°C

TO-247-4L

Rev. Pre 0.2 · 初步版規格書

高壓 AFE、DC/DC 或逆變橋臂候選;800V 母線需核對尖峰與降額。

樣品/量產/交期:待匯微確認

H3M120Q025 3D立體剖面圖查看3D立體剖面
03 規格書 PDF
對應產品應用
1200 V · SiC MOSFET

H3M120Q016

RDS(on) typ. 16 mΩ @ VGS 18 V, ID 100 A, TC 25°C

TO-247-4L

Rev. Pre 0.4 · 初步版規格書

高壓 AFE、DC/DC 或逆變橋臂候選;800V 母線需核對尖峰與降額。

樣品/量產/交期:待匯微確認

H3M120Q016 3D立體剖面圖查看3D立體剖面
03 規格書 PDF
對應產品應用
3300 V · SiC DIODE

HCS090X330

VRRM 3300 V · VF typ. 2.2 V @ IF 90 A, TJ 25°C

Die Only / 裸晶

Rev. 1.0 · 已有規格書

整流/特定續流位置之裸晶候選。90A 為 VF 測試條件;封裝、連續額定電流、熱阻及供貨須確認。

樣品/量產/交期:待匯微確認

HCS090X330 3D立體剖面圖查看3D立體剖面
03 規格書 PDF
對應產品應用
匯微科技 SiC Schottky Diode 與 SiC MOSFET 功能、應用及選型對照圖 / Huiwei SiC device selection comparison
點選圖片可開啟原圖並放大查看。
SiC DEVICE SELECTION GUIDE

先看電路功能,再選 SiC 元件。

SiC Schottky Diode

用於整流等單向導電位置。選料時先確認反向耐壓、正向電流、正向壓降與浪湧能力,再核對封裝及散熱條件。

SiC MOSFET

用於需要閘極控制的功率切換位置,例如 PFC、DC/DC 與逆變器。選料時綜合評估耐壓、導通電阻、開關損耗、閘極驅動與散熱。

本圖為選型概覽;應用與封裝為類型示例。實際料號規格、供應封裝及適用條件,請以對應規格書與工程確認為準。

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應用功能總覽

Huiwei 650V to 3300V SiC application concept map

3D 圖為應用概念;圖中各功能可能依拓撲增減或調整順序,亦非完整供應目錄。元件耐壓不等於母線電壓。

04 樣品評估/需求洽詢

填妥後可預覽、複製內容或開啟郵件程式;須由您自行寄出至 david@huiwei.com.tw。

請勿填入受保密限制的電路或客戶資料。此頁不會自動送出或儲存申請。

選型確認事項

核對實際開關阻斷電壓、尖峰與降額;依相同驅動與溫度條件比較熱態導通損耗和切換能量,再確認封裝、驅動、可靠度及交期。不同測試條件下的 mΩ 不能直接當成效率排名。